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    英特爾酷睿 Ultra處理器將采用英特爾3工藝 能效可提升18%

    2023-07-31 10:02:03來源:中關村在線  


    (資料圖)

    英特爾計劃在今年下半年發(fā)布的Meteor Lake酷睿Ultra處理器將首次采用英特爾4制程技術(shù),這是原先的7nm工藝,但英特爾認為其性能可達到4nm級別,因此進行了重新命名。接下來,英特爾將推出英特爾3工藝,即原先的5nm工藝,其能效據(jù)稱可提升18%。 英特爾首席執(zhí)行官帕特·基辛格近日透露,英特爾3工藝在今年第二季度已經(jīng)達到了缺陷密度和性能的里程碑,預計將如期達到良率和性能的整體目標。明年上半年,這項技術(shù)將首先應用于Sierra Forest(首次純小核設計),緊隨其后將應用于Granite Rapids(純大核)。Sierra Forest和Granite Rapids預計都將納入第六代可擴展至強序列,而今年底還將發(fā)布第五代的Emerald Rapids,其制程技術(shù)與現(xiàn)在的第四代Sapphire Rapids一樣,都是英特爾7工藝。 據(jù)了解,英特爾3工藝似乎不會應用于消費級產(chǎn)品,目前還未看到相關規(guī)劃,這項技術(shù)更多地針對數(shù)據(jù)中心產(chǎn)品進行優(yōu)化。此外,多次曝光的Granite Rapids以及之后的Arrow Lake,將首次引入英特爾20A工藝,相當于2nm級別。 基辛格表示,英特爾20A工藝將首次采用RibbonFET和PowerVia技術(shù),并將大規(guī)模應用于消費級產(chǎn)品,目前已在晶圓廠內(nèi)進行初步實施。不久前,英特爾宣布在代號為“Blue Sky Creek”的產(chǎn)品級測試芯片上首次實現(xiàn)了背面供電技術(shù)。這項技術(shù)能顯著提高芯片的使用效率,同時大幅縮小晶體管體積,增加單元密度,從而顯著降低成本。此外,該技術(shù)還將平臺電壓降低了30%,并帶來了6%的頻率增益。

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